ベアウェハー販売
シリコンウェハーをはじめとする各種ベアウェハーを手配いたします。
2インチから12インチまでのシリコンウェハー単体の販売、ウェハー込みの成膜加工をお受けしています。
また、SOIウェハーなどの端数在庫品もお取り扱いしています。
お気軽にお問合せください。
シリコンウェハーのサイズと種類
成膜加工などのテストウェハーに使われるシリコンウェハーのサイズ（口径）は、直径2インチから12インチまで各サイズがあり、それぞれの用途や、評価に使用するツールや装置仕様で決まります。
小口径ウェハーと呼ばれる2インチから6インチウェハは、主にオリフラ（Orientation Flat)と呼ばれる結晶軸の方向を示す直線の切れ込みを付けています。8インチからは、ノッチと呼ばれるV字型の切れ込みが主流となり、12インチはノッチのみです。最近は8インチは200mm、12インチは300mmと呼ばれることが多く、次世代ウェハは口径450mmで開発が進められています。
ウェハーの機械的特性には、直径、厚み、オリフラ/ノッチなどのほかに、エッジ面取り形状や、平坦度（TTV/LTV/Bow/Warpなど）などに細かい仕様があります。ほかに、主な特性として、導電型（P/N型)、結晶方位（100/110/111）、抵抗率(Ωcm）などの仕様、また、重要な仕様にパーティクル（粒径と個数）があり、用途別に仕様が指定できます。
シリコンウェハー仕様 （8インチダミーウェハーの一例）
8インチダミーウェハーの一般的仕様と用語の解説です。
成膜加工用ベアウェハーの場合は、
P(100)、抵抗値1～100Ωcm、パーティクル0.2um以上20個まで、その他不問の基本仕様が一般的です。
SOIウェハーについて
SOI（Silicon On Insulator）ウェハーは、
消費電力が低く、高速動作で高耐圧が要求されるパワーデバイスなどの先進デバイスに広く活用されており、最近では、BOX層（SiO2)をストッパーとして使うMEMSのD-RIE加工への使用例もあります。
製造方法は、SiO2つきウェハーに別のシリコンウェハーを重ねて接着する方法（貼り合せ方式）や、イオンを打ち込み熱処理によりSiO2層を内部形成させる方法（SIMOX)などがあります。
3層構造を持つSOIウェハーには、各層の仕様が異なる多種のウェハーがあります。
アイテスでは最も流通している張り合せ方式のSOIウェハーの端数在庫品を多数お取り扱いしています。
ご要求仕様をご指定いただければ、仕様に近い在庫品と在庫枚数をご紹介させていただきます。
少枚数のご希望が多い評価用SOIウェハーにはたいへん便利なシステムです。
| ご指定仕様項目 | |
| ウェハーサイズ（インチ）、ウェハー厚み(um) | |
| 活性層 | 厚み(um) 導電型（P/N) 方位（100/110/111) 抵抗率(Ωcm） |
| BOX 層 | 厚み(um) |
| 支持層 | 厚み(um) 導電型（P/N) 方位（100/110/111) 抵抗率(Ωcm） |
GaAsウェハー
SiCウェハー
アイテスではこれら化合物半導体材料の実験評価用ダミーグレード品を少量で・安価に調達することを得意としています。
その他のウェハー
シリコンウェハーで標準規格外の厚みのウェハー、鏡面、エッチドなどの表面処理指定も可能です。
その他、ウェハーケースなど関連備品についてもお取り扱いしています。