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ウェハー加工実績

『お客様の“時間”を大切にします』

現在、世の中でもっとも価値のあるものは“時間”です。 私たちは日々の仕事において自らの“時間”を切り売りし、またあらゆる技術革新は“時間の短縮”を目的としています。アイテスのウェハーサービスは最初の応答からお見積り回答、調達加工納期、納入時の物流に至るまで1秒でも早く対応することを常に心がけています。
お問い合わせはコチラ

実績例

8インチ加工内容一覧

膜種 装置 膜厚(Å) 膜厚公差 均一性 備考欄
熱酸化 熱酸化膜(V/F) 拡散炉 500 – 5000 ±10%以内 5%以内 150枚バッチ式処理
熱酸化膜(RTO) 18 – 200 ±10%以内 5%以内 両面成膜
ポリシリコン LP-POLY 減圧CVD 1000 – 5000 ±10%以内 5%以内 Non-doped Poly-Si
絶縁膜 LP-SIN 700 – 2000 ±10%以内 5%以内 両面成膜
LP-TEOS 3000 – 10000 ±10%以内 5%以内 アニールで収縮
P-SIN プラズマCVD 500 – 10000 ±10% 10%以内 プラズマナイトライド
P-TEOS 500 – 30000 ±10%以内 5%以内 プラズマTEOS
P-SiO2 500 – 10000 ±10%以内 10%以内 SiH4-Oxide(モノシラン)
O3-TEOS 340 – 4000 ±10%以内 10%以内 オゾンTEOS
HDP 2000 – 10000 ±10%以内 10%以内 High-Density Plasma CVD 酸化膜
P-SION 200 – 1000 ±10%以内 10%以内 反射防止膜
メタル膜 AL-CU スパッタリング装置 1000 – 10000 ±10%以内 10%以内 Cu 0.5%  下地不要
Ti 100 – 3000 ±10%以内 10%以内 密着膜
TiN 140 – 500 ±10%以内 10%以内 厚膜不可
W(SPUTTER) 500 – 1000 ±10%以内 15%以内 下地不要
W(CVD) W-CVD 3500 – 9000 ±10%以内 10%以内 下地にTiNが必要
レジスト膜 RESIST スピンコータ― 5000 – 68000 ±10%以内 5%以内 I 線/ Krf
エッチング Wet Etch MUV 等方性
Dry Etch MUV/DUV 0.25um 異方性
Deep RIE MUV AR40 ボッシュ式
膜種 装置
熱酸化 熱酸化膜(V/F) 拡散炉
熱酸化膜(RTO)
ポリシリコン LP-POLY 減圧CVD
絶縁膜 LP-SIN
LP-TEOS
P-SIN プラズマCVD
P-TEOS
P-SiO2
O3-TEOS
HDP
P-SION
メタル膜 AL-CU スパッタリング装置
Ti
TiN
W(SPUTTER)
W(CVD) W-CVD
レジスト膜 RESIST スピンコータ―
エッチング Wet Etch MUV
Dry Etch MUV/DUV
Deep RIE MUV

シリコンダミーウェハー 標準規格品一覧

サイズ 直径(mm) 導電型 面方位 厚み(μm) 抵抗率(Ω・cm) ノッチ(方位)/OF(mm) 表面 裏面 パーティクル
2 50±0.5 P 100 280±25 1~100 17.5±2.5 鏡面 エッチド 0.3um≦10個
3 76±0.5 P 100 380±25 1~100 22.0±2.5 鏡面 エッチド 0.3um≦10個
4 100±0.5 P 100 525±25 1~100 32.5±2.5 鏡面 エッチド 0.3um≦10個
5 125±0.5 P 100 625±25 1~100 42.5±2.5 鏡面 エッチド 0.2um≦30個
6 150±0.5 P 100 625±25 1~100 47.5±2.5 鏡面 エッチド 0.2um≦30個
8 200±0.5 P 100 725±25 1~100 110 鏡面 エッチド 0.2um≦30個
12 300±0.2 P 100 775±25 1~100 110 鏡面 鏡面 0.2um≦50個
サイズ 直径(mm) 導電型 面方位 厚み(μm)
2 50±0.5 P 100 280±25
3 76±0.5 P 100 380±25
4 100±0.5 P 100 525±25
5 125±0.5 P 100 625±25
6 150±0.5 P 100 625±25
8 200±0.5 P 100 725±25
12 300±0.2 P 100 775±25

SOI / SiC / GaAs / GaN / サファイアウェハー の少量販売

BG加工 / ダイシング加工 / サイズダウン加工

CONTENTS
  • 半導体プロセス受託加工サービス
  • MEMS ファウンドリーサービス
  • テスト用膜付きウェハー
  • ウェハー加工実績
  • ウェハー販売(Si/SOI/SiC/GaAs)
  • 金属汚染分析サービス
アイテス各サービスについてのお問い合わせ
分析解析・信頼性評価(品質技術 営業)TEL:077-599-5020 TEL:077-599-5020  パネル検査装置(製品開発 営業)TEL:077-599-5040 TEL:077-599-5040  電子機器修理(テクニカルサポートセンター)TEL:077-599-5031 TEL:077-599-5031 
ウェハー加工サービスTEL:077-599-5017 TEL:077-599-5017  採用について(総務)TEL:077-599-5015 TEL:077-599-5015  全体のお問い合わせTEL:077-599-5015 TEL:077-599-5015 
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